OLEDON、檀国大学と次世代超高解像度パターニング蒸着技術の共同開発に成功
先日のSID 2017で、韓国OLEDONファン・チャンフン代表は、0.38umのShadow Distanceを実現できる面蒸発源パターンイング蒸着技術開発に成功したと発表し、学界から注目を集めた。
ファン代表は、昨年開催された2016 IMIDビジネスフォーラムで、面蒸発源(Plane Source Evaporation)と厚さ100umのShadow Maskを用いて1.1umのShadow Distanceを実現できたと発表したことがある。当時、ファン代表は、「Step Heightを3umまで抑えると、理論上ではShadow Distanceを0.38umまで実現できるため、OLEDパネルの解像度を最大2250ppi(11K)まで上げることもできる」と説明した。